近红外光谱（NIR）结合多元分析技术，可以应用于半导体生产过程中的多个不同阶段，堪称实现这个目标的完美在线检测工具。适应于使用 NIR 的典型半导体生产工序包括：

ƒ 清洗液

ƒ 蚀刻液

ƒ 光刻胶显影液

ƒ 光刻胶剥离液

NIR 透射探头浸入液池，光谱仪发出的近红外光通过光纤传输至探头与样品作用后，再返回检测器。取样点与所安装的光谱仪之间的距离可以超过100米。半导体生产过程中要使用高腐蚀性化学品，因此，NIR 探头通常由 PTFE 制成并带有蓝宝石窗口，以确保较长使用寿命。

布鲁克 Matrix-F  II过程检测光谱仪的优点是：

 无需使用湿化学方法

 标配6个采样点或者更多，可以快速执行多点测量

 分析多种成分

 过程一体化（远程触发、监测、报警）

 长期稳定

 维护要求低

ƒ 出色的销售及售后支持网络

在线检测 NIR 解决方案，无需将有害的样本泵送至分析仪，从而降低了操作人员接触有害样本的风险。系统将评价所采集的光谱，并在屏幕上显示多种成分的分析结果。此外，可以将分析结果发送至分布式控制系统（DCS）或可编程逻辑控制器（PLC）。根据这些信息，操作人员可以决定是否更换清洗液或蚀刻液，或者何时往里面添加特定成分。

FT-NIR 检测参数

ƒ CH3COOH

ƒ H3PO4

ƒ 冰醋酸

ƒ HNO3

ƒ H2O

ƒ HF

ƒ HCl

ƒ H2O2

ƒ NH4OH

ƒ H2SO4

ƒ 乙二醇